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스퍼터링 타겟 [Sputtering Target]

일반 설명

스퍼터링의 재료로 사용되는 고순도 물질.  스퍼터링이란  이온을 충돌시켜  원자를 대상으로부터 제거하는 공법입니다.

허용오차
직경 ±0.5mm
두께 ±0.5mm
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