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스퍼터링 타겟 [Sputtering Target]
일반 설명
스퍼터링의 재료로 사용되는 고순도 물질. 스퍼터링이란 이온을 충돌시켜 원자를 대상으로부터 제거하는 공법입니다.
허용오차
| 직경 | ±0.5mm | |
|---|---|---|
| 두께 | ±0.5mm |
대표전화: 070-4322-1926
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